रासायनिक प्रसंस्करण अनुप्रयोग

रासायनिक हीटिंग, कूलिंग और हीट रिकवरी के लिए प्लेट हीट एक्सचेंजर्स

रासायनिक -प्रक्रिया ऊष्मा स्थानांतरण के लिए तापीय क्षमता से अधिक की आवश्यकता होती है। द्रव रसायन विज्ञान, संक्षारण जोखिम, तापमान, दबाव, गैसकेट अनुकूलता और दूषण व्यवहार की एक साथ समीक्षा की जानी चाहिए।

डब्ल्यूटीएसएमएल रासायनिक हीटिंग, शीतलन, संक्षेपण, वाष्पीकरण और प्रक्रिया गर्मी वसूली कर्तव्यों के लिए पूर्ण प्लेट हीट एक्सचेंजर्स, रिप्लेसमेंट हीट ट्रांसफर प्लेट्स और संगत गास्केट की आपूर्ति करता है।

प्रक्रिया तापन
ठंडा करने की प्रक्रिया
संघनन एवं वाष्पीकरण
हीट रिकवरी
रासायनिक प्रक्रिया ऊष्मा-स्थानांतरण समीक्षा
प्रक्रिया माध्यम अम्ल/क्षार/विलायक/प्रक्रिया तरल
→
उपयोगिता माध्यम जल/भाप/शीतलन सर्किट
प्लेट हीट एक्सचेंजर तापन • शीतलन • पुनर्प्राप्ति • चरण-परिवर्तन कर्तव्य
जंग प्लेट सामग्री की समीक्षा
रसायन विज्ञान पीएच + एकाग्रता
सील गैसकेट अनुकूलता
अवरोधन सफ़ाई की रणनीति
आवेदन सीधा उत्तर

रासायनिक प्रसंस्करण में प्लेट हीट एक्सचेंजर्स का उपयोग कहाँ किया जाता है?

प्लेट हीट एक्सचेंजर्स मीडिया को अलग रखते हुए हीटिंग, कूलिंग, संक्षेपण, वाष्पीकरण और ऊर्जा पुनर्प्राप्ति कर्तव्यों के लिए प्रक्रिया और उपयोगिता सर्किट के बीच गर्मी स्थानांतरित कर सकते हैं।

प्रक्रिया तापन

गर्म पानी, भाप साइड सिस्टम या किसी अन्य उपयुक्त हीटिंग माध्यम का उपयोग करके प्रक्रिया तरल पदार्थ का तापमान बढ़ाएं।

ठंडा करने की प्रक्रिया

ठंडा पानी, ठंडा पानी या किसी अन्य संगत कूलिंग सर्किट का उपयोग करके रासायनिक धाराओं से गर्मी निकालें।

संघनन एवं वाष्पीकरण

जब एक्सचेंजर का प्रकार और संचालन की स्थिति उपयुक्त हो तो प्लेट हीट एक्सचेंजर्स चरण-दर-चरण परिवर्तन कार्य कर सकते हैं।

प्रक्रिया हीट रिकवरी

गर्म प्रक्रिया धाराओं से उपयोगी गर्मी पुनर्प्राप्त करें और इसे किसी अन्य संगत प्रक्रिया या उपयोगिता सर्किट में स्थानांतरित करें।

विशिष्ट रासायनिक कर्तव्य

सामान्य रसायन एवं प्रक्रिया उद्योग अनुप्रयोग

रासायनिक उत्पादन

प्लेट हीट एक्सचेंजर्स विभिन्न उत्पादन चरणों में हीटिंग या कूलिंग प्रदान कर सकते हैं जहां प्रक्रिया का तापमान सीधे प्रतिक्रिया, पृथक्करण या डाउनस्ट्रीम हैंडलिंग को प्रभावित करता है।

  • सोडा ऐश प्रसंस्करण
  • अमोनिया संश्लेषण से संबंधित कर्तव्य
  • राल संश्लेषण शीतलन
  • सामान्य प्रक्रिया-तरल को गर्म करना और ठंडा करना

किण्वन एवं प्रक्रिया तरल पदार्थ

तापमान नियंत्रण महत्वपूर्ण है जहां जैविक या रासायनिक प्रक्रिया का प्रदर्शन गर्मी उत्पादन और ऑपरेटिंग तापमान के साथ बदलता है।

  • अल्कोहल किण्वन शीतलन
  • प्रक्रिया-पानी का तापमान नियंत्रण
  • मध्यवर्ती द्रव शीतलन
  • गर्म प्रक्रिया धाराओं से गर्मी की वसूली

पेट्रोकेमिकल-संबंधित कर्तव्य

रासायनिक और हाइड्रोकार्बन संबंधित प्रक्रियाओं के लिए मध्यम रसायन विज्ञान, तापमान, दबाव और गैसकेट प्रतिरोध की सावधानीपूर्वक समीक्षा की आवश्यकता होती है।

  • हाइड्रोकार्बन-संबंधित शीतलन
  • प्रक्रिया-तरल तापन
  • उपयोगिता ताप विनिमय
  • अपशिष्ट-गर्मी पुनर्प्राप्ति
रासायनिक चयन तर्क

हीट एक्सचेंजर का चयन करने से पहले माध्यम से शुरुआत करें

रासायनिक कर्तव्य का चयन वास्तविक द्रव संरचना और परिचालन स्थितियों से शुरू होना चाहिए, न कि केवल आवश्यक गर्मी हस्तांतरण क्षेत्र से।

01

माध्यम को पहचानें

प्रक्रिया और उपयोगिता मीडिया, एकाग्रता, पीएच और प्रासंगिक रासायनिक घटकों की पुष्टि करें।

02

तापमान और दबाव की समीक्षा करें

सामान्य, न्यूनतम और अधिकतम परिचालन स्थितियाँ निर्धारित करें।

03

प्लेट और गैस्केट सामग्री का चयन करें

वास्तविक माध्यम से संक्षारण प्रतिरोध और सीलिंग अनुकूलता का मिलान करें।

04

थर्मल और हाइड्रोलिक डिज़ाइन की पुष्टि करें

प्रवाह व्यवस्था, प्लेट ज्यामिति और स्वीकार्य दबाव ड्रॉप को अंतिम रूप दें।

मुख्य इंजीनियरिंग चुनौतियाँ

पांच कारक जो रासायनिक पीएचई विश्वसनीयता को सीधे प्रभावित करते हैं

संक्षारण जोखिम

द्रव संरचना, एकाग्रता, तापमान और पीएच प्लेट संक्षारण व्यवहार को दृढ़ता से प्रभावित कर सकते हैं।

गैसकेट अनुकूलता

जो रसायन एक गैसकेट यौगिक के लिए स्वीकार्य हैं वे दूसरी सामग्री पर हमला कर सकते हैं।

दूषण एवं क्रिस्टलीकरण

ठोस, लवण और रासायनिक प्रतिक्रियाएँ ऊष्मा स्थानांतरण सतहों पर जमाव पैदा कर सकती हैं।

दबाव में गिरावट

चैनल ज्यामिति और प्रवाह वेग को हाइड्रोलिक प्रतिरोध के विरुद्ध थर्मल प्रदर्शन को संतुलित करना चाहिए।

परिचालन परिवर्तनशीलता

एकाग्रता, तापमान या उत्पादन दर में परिवर्तन आवश्यक एक्सचेंजर प्रदर्शन को बदल सकता है।

दूषण एवं जमा जोखिम

रासायनिक प्रदूषण निलंबित ठोस पदार्थों से अधिक से आ सकता है

विभिन्न जमा तंत्रों के लिए अलग-अलग परिचालन और सफाई रणनीतियों की आवश्यकता होती है।

कण दूषण

निलंबित ठोस प्लेट चैनलों और ऊष्मा स्थानांतरण सतहों पर जमा हो सकते हैं।

क्रिस्टलीकरण

जब सांद्रता या तापमान की स्थिति अतिसंतृप्ति की ओर बढ़ती है तो घुले हुए लवण अवक्षेपित हो सकते हैं।

रासायनिक-प्रतिक्रिया जमा

ऊष्मा स्थानांतरण सतह के निकट होने वाली प्रतिक्रियाएं जमा उत्पन्न कर सकती हैं, भले ही प्लेट स्वयं अभिकारक न हो।

संक्षारण उत्पाद

संक्षारक मीडिया प्लेट की सतह पर हमला कर सकता है और संक्षारण संबंधित जमाव पैदा कर सकता है जो प्रदर्शन को और कम कर देता है।

आकार और चयन डेटा

रासायनिक प्रक्रिया हीट एक्सचेंजर चयन के लिए आवश्यक जानकारी

प्रक्रिया माध्यम

उत्पाद पक्ष पर रासायनिक या प्रक्रिया तरल पदार्थ प्रदान करें।

उपयोगिता माध्यम

ठंडा पानी, गर्म पानी, भाप {{0}साइड सर्किट या कोई अन्य माध्यम।

एकाग्रता और पीएच

संक्षारण और सामग्री की अनुकूलता समीक्षा के लिए आवश्यक।

प्रवाह दर

इकाइयों के साथ दोनों तरफ डिज़ाइन प्रवाह दर प्रदान करें।

तापमान कार्यक्रम

इनलेट और आवश्यक आउटलेट तापमान प्रदान करें।

कार्य का दबाव

जहां उपलब्ध हो वहां परिचालन और डिज़ाइन दबाव प्रदान करें।

स्वीकार्य दबाव ड्रॉप

अधिकतम प्रक्रिया {{0}पक्ष और उपयोगिता{{1}पक्ष दबाव हानि बताएं।

ठोस/दूषित डेटा

कणों, रेशों, क्रिस्टलीकरण या जमाव की प्रवृत्ति को पहचानें।

प्लेट सामग्री चयन

प्लेट सामग्री को रासायनिक अनुकूलता का पालन करना चाहिए

सामग्री का चयन वास्तविक द्रव रसायन विज्ञान, एकाग्रता, तापमान और संक्षारण व्यवहार पर आधारित होना चाहिए।

चयन कारक क्या समीक्षा करें इंजीनियरिंग उद्देश्य
द्रव रसायन रासायनिक संरचना, पीएच, क्लोराइड और ऑक्सीकरण/घटाने की स्थिति प्लेट की सतह द्वारा देखे गए संक्षारण वातावरण को निर्धारित करता है।
एकाग्रता सामान्य और अधिकतम रासायनिक सांद्रता संक्षारण व्यवहार एकाग्रता से महत्वपूर्ण रूप से बदल सकता है।
तापमान सामान्य और अधिकतम प्रक्रिया तापमान उच्च तापमान से संक्षारण दर बढ़ सकती है या सामग्री अनुकूलता बदल सकती है।
सफाई रसायन सफाई एजेंट, एकाग्रता और सफाई तापमान सफाई की स्थितियाँ भी प्लेट सामग्री के अनुकूल होनी चाहिए।
सामग्री चयन नोट:स्टेनलेस स्टील, टाइटेनियम और अन्य संक्षारण प्रतिरोधी प्लेट सामग्री का चयन केवल उद्योग के नाम से नहीं किया जाना चाहिए। अंतिम चयन के लिए वास्तविक रासायनिक संरचना और परिचालन स्थितियों की आवश्यकता होती है।
गैसकेट अनुकूलता

वास्तविक रासायनिक माध्यम से गैस्केट सामग्री का चयन करें

अकेले गैस्केट तापमान प्रतिरोध पर्याप्त नहीं है। रासायनिक अनुकूलता और सीलिंग प्रोफ़ाइल की भी समीक्षा की जानी चाहिए।

एनबीआर दिशा

आम तौर पर उपयुक्त तेल से संबंधित कर्तव्यों के लिए माना जाता है, लेकिन यह सभी रासायनिक या हाइड्रोलिक तरल पदार्थों के साथ सार्वभौमिक रूप से संगत नहीं है।

एचएनबीआर दिशा

वास्तविक स्थितियों के अधीन, चयनित तेल, ईंधन, विलायक, एसिड या क्षार वातावरण में मजबूत प्रतिरोध प्रदान कर सकता है।

ईपीडीएम दिशा

कई जल, भाप और रासायनिक वातावरणों में अच्छा प्रतिरोध प्रदान करता है लेकिन प्रत्येक खनिज तेल के अनुप्रयोग के लिए उपयुक्त नहीं है।

मॉडल एवं प्रोफ़ाइल मिलान

सही गैस्केट रसायन विज्ञान केवल तभी उपयोगी होता है जब सीलिंग प्रोफ़ाइल एक्सचेंजर प्लेट और मॉडल से भी मेल खाती हो।

केवल सामग्री के नाम से चयन न करें:वास्तविक रासायनिक नाम, सांद्रता, तापमान और दबाव भेजें ताकि वास्तविक परिचालन स्थितियों के विरुद्ध गैसकेट दिशा की समीक्षा की जा सके।
थर्मल और हाइड्रोलिक डिजाइन

संतुलन गर्मी हस्तांतरण, प्रवाह वेग और दबाव ड्रॉप

प्रवाह वेग

उच्च वेग अशांति और गर्मी हस्तांतरण में सुधार कर सकता है, लेकिन अत्यधिक वेग से दबाव हानि बढ़ जाती है।

प्लेट ज्यामिति

नालीदार पैटर्न थर्मल प्रदर्शन, हाइड्रोलिक प्रतिरोध और प्रवाह वितरण को प्रभावित करता है।

प्लेट मात्रा

प्लेट नंबर को आवश्यक ताप शुल्क, तापमान कार्यक्रम और स्वीकार्य दबाव ड्रॉप का पालन करना चाहिए।

प्रवाह व्यवस्था

वास्तविक प्रक्रिया आवश्यकताओं के अनुसार एक {{0}पास, बहु-{1}पास या अन्य व्यवस्था का चयन किया जाना चाहिए।

सफ़ाई एवं रखरखाव

निरीक्षण, सफाई और घटक प्रतिस्थापन के लिए रासायनिक पीएचई डिज़ाइन करें

संचालन एवं सफ़ाई संबंधी विचार

  • इनलेट और आउटलेट तापमान की निगरानी करें।
  • समय के साथ ट्रैक दबाव में - गिरावट आती है।
  • क्रिस्टलीकरण या निक्षेप निर्माण पर नजर रखें।
  • सफाई रासायनिक अनुकूलता की पुष्टि करें।
  • निस्पंदन का मूल्यांकन करें जहां निलंबित ठोस मौजूद हैं।
  • उन परिचालन परिवर्तनों की समीक्षा करें जो एकाग्रता या चिपचिपाहट को बदलते हैं।

निरीक्षण एवं रखरखाव

  • जंग या जमाव के लिए प्लेट सतहों का निरीक्षण करें।
  • सूजन, सख्त होने या रिसाव के लिए गास्केट का निरीक्षण करें।
  • रखरखाव के बाद क्लैम्पिंग की स्थिति की जाँच करें।
  • वास्तविक दूषण तंत्र के अनुसार प्लेट चैनलों को साफ करें।
  • क्षतिग्रस्त प्लेटों या असंगत गास्केट को बदलें।
  • उसी प्रतिस्थापन सामग्री को दोहराने से पहले मूल कारण की समीक्षा करें।
हमारा रासायनिक प्रसंस्करण उत्पाद दायरा

तीन कोर प्लेट हीट एक्सचेंजर उत्पाद समूह

रासायनिक अनुप्रयोगों को संपूर्ण प्लेट हीट एक्सचेंजर्स, रिप्लेसमेंट हीट{{0}ट्रांसफर प्लेट्स और रिप्लेसमेंट गैसकेट्स के माध्यम से समर्थित किया जाता है।

Complete plate heat exchangers heat exchanger plates and gaskets for chemical processing applications

संपूर्ण प्लेट हीट एक्सचेंजर्स

प्रक्रिया रसायन विज्ञान, थर्मल ड्यूटी, तापमान, दबाव, प्रवाह दर और स्वीकार्य दबाव ड्रॉप के अनुसार चयनित पूर्ण इकाइयाँ।

प्लेट हीट एक्सचेंजर्स देखें →

हीट एक्सचेंजर प्लेटें

एक्सचेंजर मॉडल, ज्यामिति, सामग्री और रासायनिक ऑपरेटिंग वातावरण द्वारा मेल खाने वाली प्रतिस्थापन या नई -प्रोजेक्ट प्लेटें।

हीट एक्सचेंजर प्लेट्स देखें →

हीट एक्सचेंजर गास्केट

एक्सचेंजर मॉडल, सीलिंग प्रोफ़ाइल, रासायनिक माध्यम, तापमान और दबाव के अनुसार प्रतिस्थापन गास्केट का चयन किया गया।

हीट एक्सचेंजर गास्केट देखें →
प्रतिस्थापन मिलान

मौजूदा रासायनिक पीएचई में प्लेट्स या गैस्केट को बदलना

प्रतिस्थापन मिलान को घटक पहचान और प्रक्रिया स्थितियों दोनों पर विचार करना चाहिए जिसके कारण मूल घटक पुराना हो गया या विफल हो गया।

ब्रांड मॉडल

मौजूदा एक्सचेंजर निर्माता और पूर्ण मॉडल प्रदान करें।

नेमप्लेट

एक स्पष्ट उपकरण नेमप्लेट फोटो भेजें.

प्लेट और गैस्केट तस्वीरें

स्पष्ट तस्वीरें प्लेट ज्यामिति और गैसकेट {{0}प्रोफ़ाइल पहचान का समर्थन करती हैं।

प्रक्रिया रसायन शास्त्र

रासायनिक माध्यम, सांद्रता, पीएच, तापमान और मात्रा प्रदान करें।

विफलता की समीक्षा:यदि मौजूदा प्लेट खराब हो गई है या गैस्केट बार-बार सूज जाता है, सख्त हो जाता है या लीक हो जाता है, तो उसी सामग्री को दोबारा ऑर्डर करने से पहले वास्तविक रासायनिक और ऑपरेटिंग डेटा भेजें।
इंजीनियरिंग सहायता

रासायनिक प्रक्रिया डेटा से लेकर उत्पाद चयन तक

नई परियोजनाओं के लिए, मीडिया, एकाग्रता, पीएच, प्रवाह दर, तापमान, दबाव, स्वीकार्य दबाव ड्रॉप और दूषित जानकारी दोनों प्रदान करें। प्रतिस्थापन परियोजनाओं के लिए, मौजूदा मॉडल, नेमप्लेट और घटक फ़ोटो भी शामिल करें।

संक्षारण समीक्षा
प्लेट सामग्री की समीक्षा
गैस्केट संगतता समीक्षा
प्रतिस्थापन मिलान
अपना रासायनिक प्रक्रिया डेटा भेजें →
रासायनिक प्रक्रिया क्रेता चेकलिस्ट

कोटेशन का अनुरोध करने से पहले ये विवरण तैयार करें

आवेदन

तापन, शीतलन, संघनन, वाष्पीकरण या ताप पुनर्प्राप्ति।

प्रक्रिया माध्यम

संपूर्ण रसायन या प्रक्रिया {{0}द्रव का नाम प्रदान करें।

एकाग्रता/पीएच

संक्षारण और सामग्री समीक्षा के लिए महत्वपूर्ण।

उपयोगिता माध्यम

पानी, भाप-साइड सिस्टम या कोई अन्य उपयोगिता।

प्रवाह दर

इकाइयों के साथ दोनों तरफ प्रवाह दर।

तापमान

इनलेट और आवश्यक आउटलेट तापमान।

दबाव

कार्य और डिज़ाइन का दबाव।

दबाव में गिरावट

अधिकतम स्वीकार्य दबाव ड्रॉप।

मौजूदा मॉडल

प्रतिस्थापन आवश्यकताओं के लिए ब्रांड/मॉडल।

मात्रा एवं गंतव्य

आवश्यक मात्रा और गंतव्य देश.

रासायनिक प्रसंस्करण अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न

सामान्य रासायनिक प्लेट हीट एक्सचेंजर प्रश्न

किसी रासायनिक प्रक्रिया के लिए प्लेट हीट एक्सचेंजर का चयन करने के लिए किस जानकारी की आवश्यकता होती है? +

जहां प्रासंगिक हो, दोनों मीडिया, रासायनिक एकाग्रता और पीएच, प्रवाह दर, इनलेट/आउटलेट तापमान, ऑपरेटिंग दबाव, स्वीकार्य दबाव ड्रॉप और किसी भी ज्ञात प्रदूषण या ठोस जानकारी प्रदान करें।

संक्षारक रासायनिक मीडिया के लिए प्लेट सामग्री का चयन कैसे किया जाता है? +

चयन वास्तविक रासायनिक संरचना, एकाग्रता, तापमान, पीएच, क्लोराइड और सफाई की स्थिति पर निर्भर करता है। अंतिम सामग्री चयन के लिए केवल उद्योग का नाम ही पर्याप्त नहीं है।

एसिड, क्षार या विलायक के लिए गैसकेट सामग्री का चयन कैसे किया जाना चाहिए? +

गैसकेट यौगिक की समीक्षा वास्तविक रासायनिक माध्यम, सांद्रता, तापमान और दबाव के साथ-साथ एक्सचेंजर मॉडल और गैसकेट प्रोफाइल से मेल खाते हुए की जानी चाहिए।

रासायनिक प्लेट हीट एक्सचेंजर में गंदगी का क्या कारण है? +

निलंबित कणों, क्रिस्टलीकरण, रासायनिक प्रतिक्रियाओं, संक्षारण उत्पादों या अन्य प्रक्रिया -विशिष्ट जमाव के परिणामस्वरूप गंदगी हो सकती है।

रासायनिक PHE में उच्च दबाव में गिरावट का क्या कारण हो सकता है? +

संभावित कारणों में दूषण, क्रिस्टलीकरण, बढ़ी हुई चिपचिपाहट, चैनल रुकावट, अत्यधिक प्रवाह या अनुपयुक्त प्लेट विन्यास शामिल हैं।

क्या प्लेट हीट एक्सचेंजर्स का उपयोग संघनन और वाष्पीकरण कर्तव्यों के लिए किया जा सकता है? +

प्लेट हीट एक्सचेंजर्स को संक्षेपण और वाष्पीकरण कर्तव्यों पर लागू किया जा सकता है जब चयनित एक्सचेंजर कॉन्फ़िगरेशन, दबाव, तापमान और सामग्री वास्तविक प्रक्रिया के लिए उपयुक्त होते हैं।

क्या आप मौजूदा रासायनिक हीट एक्सचेंजर के लिए प्रतिस्थापन प्लेट और गास्केट का मिलान कर सकते हैं? +

मौजूदा एक्सचेंजर ब्रांड और मॉडल, नेमप्लेट, घटक फोटो, आयाम, सामग्री, रासायनिक माध्यम और आवश्यक मात्रा का उपयोग करके प्रतिस्थापन मिलान की समीक्षा की जा सकती है।

रासायनिक प्रक्रिया अनुप्रयोग समर्थन

तकनीकी समीक्षा के लिए अपना रासायनिक प्रक्रिया डेटा भेजें

कृपया जहां प्रासंगिक हो वहां मीडिया, रासायनिक सांद्रता और पीएच, प्रवाह दर, इनलेट/आउटलेट तापमान, कामकाजी दबाव और स्वीकार्य दबाव ड्रॉप दोनों प्रदान करें। प्रतिस्थापन परियोजनाओं के लिए, मौजूदा ब्रांड, मॉडल, नेमप्लेट और घटक फ़ोटो शामिल करें।

रासायनिक प्रक्रिया तकनीकी सहायता का अनुरोध करें →
सिफ़ारिश और उद्धरण का अनुरोध करें

रासायनिक प्रसंस्करण प्लेट हीट एक्सचेंजर पूछताछ

संपूर्ण प्लेट हीट एक्सचेंजर, प्रतिस्थापन प्लेट या संगत गैस्केट की समीक्षा के लिए अपना नया प्रोजेक्ट या प्रतिस्थापन जानकारी भेजें।

 
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